日本施設㈱
| ブース番号 | 1-417 |
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紫外線光触媒脱臭装置 紫外線促進酸化脱臭装置 紫外線海水殺菌装置＋PVAろ過装置
乾式常温酸化方式。高濃度・小風量向け。腐敗臭気に実績多い。
湿式常温酸化方式。低濃度・大風量向け。調理臭気に実績あり。
低価格高性能。メンテナンスフリー。
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| 出展製品 |
紫外線光触媒脱臭装置 紫外線促進酸化脱臭装置 紫外線海水殺菌装置＋PVAろ過装置 |
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